製造現場において、フォトレジストの焼成やウェーハの乾燥の際の温度変動は、単なる理論上の問題ではありません。それは実際に生産性に影響を与える問題なのです。0.5℃の温度変動だけで、重要な寸法に影響が出ます。また、ゆっくりとした温度上昇は、わずかしか割けない熱エネルギーを無駄にしてしまいます。超純水用の加熱ランプは、工程内での温度を一定に保つために使われます。
重要なポイント 私たちは、石英製のケースに収められた短波長の赤外線放射体を使用しています。これにより、超純水やフォトレジストの吸収特性に合わせて、効率的かつ迅速にエネルギーを供給できます。対象となる領域の温度均一性は±0.1℃以内を維持でき、使用時点でのフィードバック制御によって再現性も確保されます。このランプは、クラス1から100までのクリーンルーム環境で使用可能で、設計上、粒子の発生を防ぎます。また、流体の流れが密封されているため、イオンの漏れもありません。この装置は5,000時間以上安定して動作し、強度の変動は5％未満です。
なぜこの装置が適しているのか ウェーハの乾燥においては、このランプによって処理時間が短縮され、表面が汚れることもありません。リソグラフィーでは、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルが正確に制御され、CDの精度が向上し、スカムの発生も減少します。パッケージングでは、迅速な硬化によってオーブンでの保持時間が短縮され、接着力に悪影響を与えません。清掃や乾燥の場合も、再堆積が起こらず、スクラップや再作業が減少します。また、熱が部屋全体に散逸するのではなく、直接工程に利用されるため、エネルギー消費も削減されます。
注意すべき点 このランプは既存のウェットベンチやベイクトラックに簡単に取り付けられますが、基板表面との位置合わせが均一性を決定する重要な要素です。流量や出力密度、温度の設定値を調整するためには、短時間での調整が必要です。石英製のケースは耐久性がありますが、依然として注意深い取り扱いと定期的な点検が必要です。