では、お客様のファブで使えるUHP赤外線加熱について話しましょう。
ウェハ処理においては、わずかな歩留まりの向上でも大変な労力が必要です。そのため、私たちは超高純度のUHPヒーターランプを開発しています。今日では「グリーンファクトリー」の基準が求められていますが、私たちにとってはそれ以上にシンプルな話です。抵抗加熱から短波長赤外線加熱への移行は、エネルギーの無駄遣いを防ぐための当然の選択肢です。
従来の方法の問題点
通常の抵抗加熱炉を考えてみてください。まるで、コーヒーを温めるためだけに家全体を温めようとしているようなものです。チャンバーの壁を温めるために大量のエネルギーが無駄に消費されます。
一方、私たちのUHPランプはそうではありません。エネルギーを直接基板に与えるため、温度上昇にかかる時間が短縮されます。機械が無駄に動く時間が減り、実際に作業を行う時間が増えます。つまり、熱負荷が大幅に軽減されます。
ただ一点注意が必要です。高いワット密度は速度を向上させるのには役立ちますが、電源装置には大きな負担をかけます。高電圧のアレイを使用する場合は、電気系統がその急激な負荷に耐えられるか確認してください。起動時に遮断器が作動してしまうと困ります。
汚染対策
ご存知の通り、わずかな不純物であっても、歩留まりを著しく低下させてしまいます。それは本当に厄介な問題です。
そのため、私たちは金属不純物がほぼ含まれない合成融剤石英を使用しています。また、ランプを徹底的に洗浄して、揮発性有機化合物を除去します。これにより、最初の数回の焼成工程で煩わしいガス放出の問題に悩まされることはありません。
接続部についても、私たちは細心の注意を払っています。専用のシール材を使用しているのは、接続部からの漏れが単なる電気的なリスク以上の問題になるからです。酸素が真空状態や不活性雰囲気に混入すると、気づく前にウェハの表面が損傷してしまいます。
現実的なトレードオフ
赤外線加熱に切り替えることで、1枚のウェハあたりの電力消費量は確実に減少します。これはカーボン計算においては良い結果になります。
しかし、赤外線ランプも永遠に使えるわけではありません。フィラメントは時間とともに蒸発してしまいます。これは物理的な法則です。プロセスの安定性を保つためには、定期的にランプを交換する必要があります。
何があっても、ランプが途中で壊れるのを待ってはいけません。1つのランプが壊れただけで全ての製品を廃棄するのは、一度だけ犯してはいけない過ちです。